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美國的法案，旨在限制中國獲取先進的半導體製造裝置，已進行修改。
《MATCH法案》的修正版本放寬了一些限制，但仍然禁止向中國出口ASML的DUV沉浸式光刻技術。
重點
- 美國國會取消了針對 Lam Research 和 Tokyo Electron 的關於限制其銷售液態氮蝕刻工具的條款。
- 新的草案要求在受限制的中國設施中維護半導體裝置需要獲得許可證，但已取消一概拒絕的政策。
- 這項法案設定了一個時間限制，即在美國單方面實施控制措施之前，必須先與盟友進行外交談判。
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