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美國制裁阻止華為將自有先進設計轉化為強大晶片,華為另闢蹊徑,在未使用極紫外光(EUV)光刻機的情況下提升電晶體密度。

華為將使用Tau Scaling Law與LogicFolding技術,在無需EUV光刻的情況下提升晶片密度。

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